絮凝沉淀的特點(diǎn)是顆粒在沉淀過程中其尺寸、質(zhì)量會(huì)隨深度增大而增大，因而沉速也隨深度而增大。絮凝顆粒的沉淀軌跡是一條曲線，但難以用數(shù)學(xué)方法表達(dá)，因此要用實(shí)驗(yàn)室的沉淀分析來確定必要的設(shè)計(jì)參數(shù)。

　　通過本實(shí)驗(yàn)希望達(dá)到下述目的：

　　1、了解絮凝沉淀的特點(diǎn)和規(guī)律;

　　2、掌握絮凝沉淀的實(shí)驗(yàn)方法和實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的整理方法。

二、絮凝沉降設(shè)備（6組）的實(shí)驗(yàn)原理：

　　絮凝顆粒A、B在沉淀過程中互相碰撞后形成了新的顆粒AB，由于其尺寸增大，故沉速Vab明顯大于A、B二顆粒各自的沉速Va和Vb，并沿著新的軌跡下沉。由于生產(chǎn)性沉淀池中水力特性的影響，實(shí)際的絮凝沉淀工程遠(yuǎn)比圖3-1所示現(xiàn)象復(fù)雜。顆粒碰撞時(shí)可能有互相阻礙作用，故在絮凝期間，顆粒向下運(yùn)動(dòng)的同時(shí)也可能向上運(yùn)動(dòng)。此外，顆粒到達(dá)池底以前還可能因液流的作用被破碎。目前尚無(wú)理論公式可用以描述沉淀池中的這一復(fù)雜現(xiàn)象，一般是通過沉淀柱中的靜態(tài)試驗(yàn)來確定某一指定時(shí)間的懸浮物去除率。將此實(shí)驗(yàn)結(jié)果用于生產(chǎn)性沉淀池設(shè)計(jì)時(shí)，為了補(bǔ)償紊流、短流和進(jìn)出口損失的影響，?？腺M(fèi)爾德(Eckenfelder)建議，根據(jù)實(shí)驗(yàn)選定的溢流率應(yīng)除以1.25-1.75的系數(shù)，停留時(shí)間應(yīng)乘以1.5-2.0的系數(shù)。

三、絮凝沉降設(shè)備（6組）的主要技術(shù)指標(biāo)及參數(shù)：

　　1、環(huán)境溫度：5℃～40℃

　　2、沉淀柱直徑:100mm×1700mm

　　3、裝置外形尺寸：800 mm×700 mm×2500 mm 數(shù)量：6組 (根)、

　　4、工作電源：AC220V±10%、50Hz，單相三線制，功率220W，安全保護(hù)：具有接地保護(hù)、漏電保護(hù)、過流保護(hù);、

四、絮凝沉降設(shè)備（6組）的主要配置：

　　1、沉淀柱6套(包括標(biāo)尺)：透明有機(jī)玻璃材質(zhì)、壁厚6mm，Φ100mm×1700mm，沉淀柱上設(shè)溢流管、取樣管、進(jìn)水及放空管各一個(gè);

　　2、原水箱1個(gè)：白色PP板、厚度10mm，底板上安裝有放空閥，方便將水排凈;

　　3、原水箱配電機(jī)攪拌1臺(tái)、304不銹鋼攪拌槳1套;(功率25W、轉(zhuǎn)速90rpm)、

　　4、304不銹鋼潛水泵1臺(tái)：額定流量25L/min、額定揚(yáng)程5m、額定功率150W;

　　5、布水管道閥門6套(UPVC給水管閥);

　　6、銅制球閥取樣口、5只/根，共計(jì)30只;

　　7、電源控制系統(tǒng)：雙面亞光密紋噴塑電控箱1只、漏電保護(hù)器、電壓表、帶鎖按鈕開關(guān)、線管等組成，

　　8、配套UPVC連接管道和閥門(中財(cái)品牌)。

　　9、不銹鋼框架實(shí)驗(yàn)臺(tái)(30mm×30mm不銹鋼方管、配腳輪為萬(wàn)向輪帶禁錮腳)等組成。

五、絮凝沉降設(shè)備（6組）的軟件組成：

　　公司提供與本裝置的實(shí)物配套使用3D交互式動(dòng)態(tài)仿真軟件1套、(虛擬實(shí)訓(xùn)系統(tǒng))。

　?、?、3D軟件界面并有工具欄項(xiàng)目?jī)?nèi)容：⑵、3D仿真演示軟件與設(shè)備使用內(nèi)容完全一致;⑶、3D仿真軟件屏幕大小尺寸可以編程;⑷、整套軟件與設(shè)備實(shí)驗(yàn)過程流程動(dòng)畫。

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1、上海振霖：公司生產(chǎn)的教學(xué)設(shè)備產(chǎn)品種類多、價(jià)格實(shí)惠、質(zhì)量保證、交貨迅速、售后服務(wù)周到；
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